随着科技的不断进步，很多高科技产品都依赖一个重要的核心，那就是芯片。小小的芯片上集成了数亿的微电路，实现了各种电子设备的正常运作，现在最常用到的手机就非常依赖芯片，现在全球能够自主研发高端芯片的厂商只有华为、苹果、三星、高通这四家企业，但是它们都依赖着台积电，只有台积电掌握了最先进的代工工艺，目前已经到了5nm的级别。
为什么只有台积电能掌握呢？芯片的代工依赖光刻机，而光刻机的产能很低，无法量产，只有台积电能够从ASML那里拿到最顶尖的光刻机，形成了台积电的垄断地位。很多人就会想了，我们为什么不生产国产光刻机呢？光刻机可以说是集成了全人类智慧结晶的产品，而ASML公司在早期打造了自己的技术壁垒，别人是无法复刻它的光刻机的，所以现在国产光刻机进展非常缓慢。
我国很多人想自研光刻机，ASML公司就曾放出“狠话”：“别说是逆向复制了，就算我们把全套图纸都给你，你们也造不出光刻机来”。ASML这些话听上去确实很狂妄，但事实就是如此，想要复制几乎是不可能的，我们只有走出一条新的道路才能打破ASML在光刻机上的垄断地位。此前，国产光刻机传来消息，已经能够通过另一种方式实现10nm工艺的制造，成功突破ASML公司的技术封锁！
原来，我国利用紫外线光源能够实现22nm分辨率光刻机，可以用于生产10nm芯片，我们对这项技术具有完全自主知识产权，是由中科院和数家中国高科技企业共同设计完成的，对于国产光刻机的发展有着重要意义！而这个消息对于ASML公司可以说是晴天霹雳，现在是不是想收回之前放出的“狠话”了？
在这之前，国产光刻机最好的是90nm光刻机，距离ASML的5nm光刻机差距有，现在我们已经能够追到10nm光刻机了，相信在中国科学家的努力下，我们也能实现5nm光刻机的自主生产，不用再依赖ASML公司。
大家对此有什么其他看法呢？欢迎在下方讨论！
